Spectromètres de masse



Produits

Détails techniques - équipements pour analyse de gaz

Analyseurs de gaz temps réel répondant à une très large gamme d'applications.

Détails techniques - équipements pour analyse de gaz

»  QGA

Analyseur de gaz quantitatif

»  HPR-20 QIC R&D

Système d'analyse de gaz spécialisé pour la recherche avancée

»  HPR-20 QIC R&D Plus

Système avec contrôle de la calibration intégré

»  HPR-20 QIC EGA

Système d'analyse de gaz pour analyse poussée en TGA-MS

»  TGA-MS

Entrées de spectromètres de masse pour raccordement avec systèmes TGA

»  HPR-20 QIC TMS

Spectromètre transitoire pour analyses de gaz rapides

»  QIC Biostream

Analyseur muti-entrées pour analyses en sortie de fermenteur

»  HPR-40 DSA

Analyseur d'espèces dissoutes avec entrée à membrane

»  HPR-60 MBMS

Echantillonnage sur faisceau moléculaire pour analyse d'ions et de radicaux

»  HPR-70

Système d'analyse par lots de petits volumes

»  HPR-90

Système avec perçage automatique pour analyse d'ampoules

 

Spectromètres de masse pour catalyse et analyses thermiques

Micro réacteurs et spectromètres de masse automatisés pour recherches en catalyse

Détails techniques - équipements pour catalyse et analyses thermiques

»  CATLAB-PCS

Micro réacteurs et spectromètres de masse automatisés

»  SpaciMS

Spectromètres de masse avec capillaire résolut spatiallement

»  HPR-20 QIC TMS

Spectromètres transitoires pour analyses de gaz rapides

»  TGA-MS

Entrées de spectromètres de masse pour raccordement avec systèmes TGA

»  3F-PIC

Spectromètres transitoires pour analyses de gaz rapides en UHV

»  HPR-60 MBMS

Echantillonnage sur faisceau moléculaire pour analyse d'ions et de radicaux

   
   

 

Spectromètres de masse pour couches minces, plasmas et élaboration de surfaces

RGA, diagnostic plasma, analyse de surface et SIMS de détection de fin d'attaque

Détails techniques - équipements pour couches minces, plasmas et élaboration de surfaces

»  HPR-30

Analyse de gaz de procédés et de gaz rédiduels

»  EQP

Analyse d'ions positifs et négatifs, de neutres et de radicaux

»  PSM

Spectromètre de masse pour analyse de plasma

»  ESPion

Sonde de Langmuir pour analyse des propriétés plasma

»  IMP-EPD

Contrôle de gravure ionique et qualité optimale de process

»  XBS

Surveillance de flux de déposition avec MBE

»  TPD Workstation

Etudes de désorption sous températures programmées en UHV

»  SIMS Workstation

Instrument SIMS UHV pour analyse de surface de couches minces, SIMS statique, profil en épaisseur et imagerie

»  Compact SIMS

Compact SIMS optimisée pour les profil en épaisseur à l'échelle nanométrique

»  EQS SIMS Analyser

Analyseurs SIMS pour l'analyse d'ions secondaires positifs et négatifs d'échantillons solides

»  MAXIM

Analyseurs SIMS/SNMS statiques et dynamiques

»  IG5C

Canon à ions de 5keV au Cesium pour analyse de surface sous UHV

»  IG20

Canon à ions de 5keV Argon ou Oxygène pour analyse de surface sous UHV

 

Spectromètres de masse pour analyse de gas résiduels

Analyse de gaz et vapeurs dans les chambres sous vide et les procédés

Détails techniques - équipements pour analyse de gas résiduels

»  RGA Series

Pour l'analyse du contenu d'un récipient ou dérivés d'un process

»  Ion Source Options

Une large gamme de sources par impact d'électrons pouvant être fournies sur nos RGA

»  HMT

Systèmes RGA double mode pour contrôle du vide et suivi de process

»  HAL 201 RC

RGA configuré pour applications UHV exigentes

»  HALO 201 MBE

Pour épitaxie par faisceau moléculaire

»  XBS

On cotrôleur de plux pour déposition par MBE

»  qRGA

Pour la recherche sur Tokamak

»  3F Series 1000/2000 RGA

Pour applications et process scientifiques de haute précision

»  3F-PIC

Spectrmètre de masse transitoire pour analyses rapides en UHV

»  EPIC

Système pour analyse UHV de neutres, radicaux et ions

»  IDP

Système pour analyse UHV de neutres, radicaux et ions lors du suivi de désorption