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Couches Minces, Plasma et Élaboration de Surfaces

Série HPR-30

Analyseur de gaz résiduels pour analyses et mesures de gaz de procédés sous vide, des contaminations, et détections de fuites.

HPR-60 MBMS

HPR-60 MBMS

Le système HPR-60 MBMS (molecular beam mass spectrometer) est optimisé pour l’analyse des ions positifs et négatifs, et des neutres et radicaux à la pression atmosphérique, offrant une solution très complète pour des analyses du plasma et de la combustion.

HMT

Double mode RGA pour diagnostic du vide et surveillance de procédé sans pompage différentielle. Prévu pour des mesures de gaz résiduels, contaminations et détection de fuites.

Série EQP

Analyseur de masse et d’énergie pour des études détaillées du plasma. Le système fourni des analyses hautement sensibles des ions positifs et négatifs, neutres, et radicaux issus de procédés plasmas.

PSM

Analyseur en masse et énergie pour le diagnostic plasma, offrant des mesures de spectres de masse pour des ions positifs, neutres et radicaux, qui sont les clés composants de la cinétique de réaction en chimie des plasmas.

ESPion

Une sonde de Langmuir évoluée pour les diagnostics du plasma, offrant des mesures des propriétes électriques des plasma basse pression.

IMP-EPD

Pour le contrôle de gravure ionique et détection de fin d’attaque pour l’identification des interfaces de matériaux dans la fabrication de dispositifs multicouches. Applications: couches minces magnétiques, supraconducteurs haute température, et semi-conducteurs III-V.

XBS

Système pour l’analyse de plusieurs sources dans les applications de déposition MBE. Il analyse les faisceaux d’ions et contrôle de la vitesse de dépôt ainsi que l’analyse de la qualité de la source et le diagnostic du vide.

TPD Workstation

TPD Workstation

Système pour études de désorption programmée en désorption UHV (TPD/TDS). Complet avec chauffage et chargement rapide de l’échantillon, spectromètre de masse quadripolaire à triple filtre et enveloppe refroidie pour une sensibilité optimale.

SIMS Workstation

La station de travail SIMS combine l’analyse SIMS dynamique et statique avec un spectromètre de masse bi-mode pour la détection des ions positifs et négatifs. Il offre un mode de détection supplémentaire par spectrométrie de masse neutre secondaire (SNMS) pour une flexibilité supérieure dans l’analyse des applications de surface.

ToF-qSIMS Workstation

Le système TOF-qSIMS est conçu pour l’analyse de surface et les applications de profilage en profondeur d’une large gamme de matériaux: les polymères, produits pharmaceutiques, supraconducteurs, semi-conducteurs, alliages, revêtements optiques et fonctionnels et les diélectriques, avec une sensibilité de mesure de traces à des niveaux inférieurs au ppm.

Compact SIMS

Le système Compact SIMS est un système d’analyse UHV rapide et compact pour le profilage de couches minces. Il fournit une sensibilité isotopique sur l’ensemble du tableau périodique.

AutoSIMS

Le système d’analyse de surface AutoSIMS est conçu pour des opérations à haut débit. Il peut effectuer des centaines de processus par jour sans intervention de l’opérateur.

EQS – Analyseur SIMS

Le Hiden EQS (quadrupôle électrostatique) est un détecteur SIMS polyvalent d’ions positifs et négatifs pour les applications d’analyse de surface à l’échelle nanométrique. Il offre un analyseur d’énergie sectoriel électrostatique à 45° intégré, et des taux de transmission élevés.

MAXIM

Le système MAXIM est un analyseur SIMS. Offrant une gamme de masse jusqu’à 1000 uma, il intègre un filtre d’énergie pour l’acceptation des ions à 30°, des optiques d’extraction SIMS à haute transmission, et un détecteur de comptage d’ions par impulsions (PIC).

IG5C

L’IG5C est doté d’une source d’ionisation de surface à faible puissance et haute luminosité couplée à une colonne d’ions compacte, offrant des performances élevées de faible encombrement. Il est conçu comme un faisceau d’ions primaire pour toutes les applications SIMS, dynamiques, statiques et d’imagerie.

IG20

Le IG2O est un canon à ions de 5keV Argon ou Oxygene pour l’analyse de surface en UHV. Il est conçu comme faisceau d’ions primaire pour les applications SIMS, Auger et XPS pour l’imagerie et le profilage de profondeur.